Nickel self-diffusion in silicon-rich Si-Ni melts

Pommrich, I. und Meyer, A. und Holland-Moritz, D. und Unruh, T. (2008) Nickel self-diffusion in silicon-rich Si-Ni melts. Applied Physics Letters, 92, 241922-1-241922-3. doi: 10.1063/1.2947592.

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Dokumentart:

Zeitschriftenbeitrag

Titel:

Nickel self-diffusion in silicon-rich Si-Ni melts

Autoren:

Autoren	Institution oder E-Mail-Adresse	Autoren-ORCID-iD	ORCID Put Code
Pommrich, I.	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Meyer, A.	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Holland-Moritz, D.	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Unruh, T.	Technische Universität München	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT

Datum:

2008

Erschienen in:

Applied Physics Letters

Referierte Publikation:

Open Access:

Nein

Gold Open Access:

Nein

In SCOPUS:

Nein

In ISI Web of Science:

Band:

DOI:

10.1063/1.2947592

Seitenbereich:

241922-1-241922-3

Status:

veröffentlicht

Stichwörter:

diffusion, melt

HGF - Forschungsbereich:

Verkehr und Weltraum (alt)

HGF - Programm:

Weltraum (alt)

HGF - Programmthema:

W FR - Forschung unter Weltraumbedingungen (alt)

DLR - Schwerpunkt:

Weltraum

DLR - Forschungsgebiet:

W FR - Forschung unter Weltraumbedingungen

DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):

W - Vorhaben Materialwissenschaftliche Forschung (alt)

Standort:

Köln-Porz

Institute & Einrichtungen:

Institut für Materialphysik im Weltraum

Hinterlegt von:

Parpart, Ingeborg

Hinterlegt am:

24 Jul 2008

Letzte Änderung:

27 Apr 2009 15:07

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