Thermal Plasma Chemical Vapor Deposition of Si-Based Ceramic Coatings from Liquid Precursors

Bouyer, E. und Schiller, G. und Müller, M. und Henne, R. (2001) Thermal Plasma Chemical Vapor Deposition of Si-Based Ceramic Coatings from Liquid Precursors. Plasma Chemistry and Plasma Processing, 21 (4), Seiten 523-546.

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Dokumentart:

Zeitschriftenbeitrag

Zusätzliche Informationen:

LIDO-Berichtsjahr=2001,

Titel:

Thermal Plasma Chemical Vapor Deposition of Si-Based Ceramic Coatings from Liquid Precursors

Autoren:

Autoren	Institution oder E-Mail-Adresse	Autoren-ORCID-iD	ORCID Put Code
Bouyer, E.	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Schiller, G.	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Müller, M.	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Henne, R.	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT

Datum:

2001

Erschienen in:

Plasma Chemistry and Plasma Processing

Referierte Publikation:

Open Access:

Nein

Gold Open Access:

Nein

In SCOPUS:

Nein

In ISI Web of Science:

Band:

Seitenbereich:

Seiten 523-546

Status:

veröffentlicht

HGF - Forschungsbereich:

Energie

HGF - Programm:

Rationelle Energieumwandlung (alt)

HGF - Programmthema:

E BZ - Brennstoffzellen (alt)

DLR - Schwerpunkt:

Energie

DLR - Forschungsgebiet:

E BZ - Brennstoffzellen

DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):

NICHT SPEZIFIZIERT

Standort:

Stuttgart

Institute & Einrichtungen:

Institut für Technische Thermodynamik

Hinterlegt von:

DLR-Beauftragter, elib

Hinterlegt am:

16 Sep 2005

Letzte Änderung:

06 Jan 2010 15:09

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