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Stimulated Terahertz Stokes Emission of Silicon Crystals Doped with Antimony Donors

Pavlov, Sergey und Hübers, Heinz-Wilhelm und Hovenier, Jacob Niels und Klaassen, Tjeerd Onno und Carder, Damian A. und Phillips, P. Jonathan und Redlich, Britta und Riemann, Helge und Zhukavin, Roman Kh. und Shastin, Valery N. (2006) Stimulated Terahertz Stokes Emission of Silicon Crystals Doped with Antimony Donors. Physical Review Letters, 96, 037404-1-037404-4. American Physical Society. doi: 10.1103/PhysRevLett.96.037404.

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389kB

Offizielle URL: http://link.aps.org/abstract/PRL/v96/e037404

Kurzfassung

Stimulated Stokes emission has been observed from silicon crystals doped by antimony donors when optically excited by radiation from a tunable infrared free electron laser. The photon energy of the emission is equal to the pump photon energy reduced by the energy of the intervalley transverse acoustic (TA) g-phonon in silicon (2.92 THz). The emission frequency covers the range of 4.6–5.8 THz. The laser process occurs due to a resonant coupling of the 1s(E) and 1s(A<sub>1</sub>) donor states (separation 2.97 THz) via the g-TA phonon, which conserves momentum and energy within a single impurity center.

elib-URL des Eintrags:https://elib.dlr.de/22403/
Dokumentart:Zeitschriftenbeitrag
Titel:Stimulated Terahertz Stokes Emission of Silicon Crystals Doped with Antimony Donors
Autoren:
AutorenInstitution oder E-Mail-AdresseAutoren-ORCID-iDORCID Put Code
Pavlov, SergeyNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Hübers, Heinz-WilhelmNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Hovenier, Jacob NielsKavli Institute of Nanoscience Delft, Delft University of Technology, 2600 GA Delft, The NetherlandsNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Klaassen, Tjeerd OnnoKavli Institute of Nanoscience Delft, Delft University of Technology, 2600 GA Delft, The NetherlandsNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Carder, Damian A.FOM-Institute for Plasma Physics, 3439 MN Nieuwegein, The NetherlandsNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Phillips, P. JonathanFOM-Institute for Plasma Physics, 3439 MN Nieuwegein, The NetherlandsNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Redlich, BrittaFOM-Institute for Plasma Physics, 3439 MN Nieuwegein, The NetherlandsNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Riemann, HelgeInstitute of Crystal Growth, Max-Born-Strasse 2, 12489 Berlin, GermanyNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Zhukavin, Roman Kh.Institute for Physics of Microstructures, Russian Academy of Sciences, 603950 Nizhny Novgorod, RussiaNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Shastin, Valery N.Institute for Physics of Microstructures, Russian Academy of Sciences, 603950 Nizhny Novgorod, RussiaNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Datum:27 Januar 2006
Erschienen in:Physical Review Letters
Open Access:Nein
Gold Open Access:Nein
In SCOPUS:Nein
In ISI Web of Science:Nein
Band:96
DOI:10.1103/PhysRevLett.96.037404
Seitenbereich:037404-1-037404-4
Verlag:American Physical Society
Status:veröffentlicht
Stichwörter:Stokes lasing, silicon, terahertz
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HGF - Programm:Weltraum (alt)
HGF - Programmthema:W EW - Erforschung des Weltraums
DLR - Schwerpunkt:Weltraum
DLR - Forschungsgebiet:W EW - Erforschung des Weltraums
DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):W - Projekt SOFIA (alt)
Standort: Berlin-Adlershof
Institute & Einrichtungen:Institut für Planetenforschung > Terahertz- und Infrarotsensorik
Hinterlegt von: Pavlov, Dr. Sergey
Hinterlegt am:16 Feb 2006
Letzte Änderung:12 Dez 2013 20:10

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