elib
DLR-Header
DLR-Logo -> http://www.dlr.de
DLR Portal Home | Imprint | Privacy Policy | Accessibility | Contact | Deutsch
Fontsize: [-] Text [+]

Additive Fertigung von ausscheidungsfähigen niedriglegierten Kupferlegierungen mit Chrom und Hafnium

Dölling, Julia and Gruber, Samira and Kovermann, Felix and Stepien, Lukas and Beeh, Elmar and Lopez, Elena and Leyens, Christoph and Wobker, Hans-Guenter and Zilly, Andreas (2025) Additive Fertigung von ausscheidungsfähigen niedriglegierten Kupferlegierungen mit Chrom und Hafnium. Kupfersymposium 2025, 2025-11-12 - 2025-11-13, Schwäbisch Gmünd.

[img] PDF
650kB

Abstract

Kupferlegierungen mit Chrom und Hafnium bieten die Möglichkeit der Ausscheidungshärtung und verbinden erhöhte Festigkeit mit hohen elektrischen und thermischen Leitfähigkeiten. Der Produktionsprozess, der bei den Rohstoffen beginnt, umfasst die Pulverherstellung durch Gasverdüsung und führt zur additiven Fertigung durch Laser-Pulverbettschmelzen mit verschiedenen Parametersätzen. Ziel ist es, die anschließenden Ausscheidungsreaktionen während der auslagernden Temperatureinwirkung zur weiteren Eigenschaftsoptimierung zu nutzen und additiv gefertigte Kupferbauteile mit hoher mechanischer Festigkeit sowie guter elektrischer, respektive thermischer, Leitfähigkeit herzustellen. Die Forschungsarbeit konzentriert sich auf die niedriglegierte Kupferlegierung CuHf0,7Cr0,35, vergleicht diese mit konventionell (Urformen durch Gießen und anschließende thermische und mechanische Behandlungsschritte) hergestellten Proben. Außerdem wird diese noch neuartige Legierung in Beziehung zu weiteren, additiv hergestellten, Proben anderer Referenzlegierungen wie CuCr1Zr gesetzt, um das Potential der Werkstoffe direkt zu vergleichen. Messungen der Härte und der elektrischen Leitfähigkeit werden von metallografischen Untersuchungen begleitet, um das Verhalten der additiv verarbeiteten CuHf0,7Cr0,35-Legierung zu verstehen. Im Ausgangszustand bleiben Schmelzspuren im Gefüge sichtbar, und es werden Härtewerte von 101 HV und eine elektrische Leitfähigkeit von 17,5 MS/m erreicht. Das Lösungsglühen rekristallisiert das Gefüge vollständig, und das anschließende Abschrecken hält weitere Legierungselemente im übersättigten Mischkristall, was zu 73 HV und 16,5 MS/m führt. Nachfolgende zielgerichtete Ausscheidungsreaktionen ermöglichen Spitzenwerte von etwa 190 HV und 42 MS/m. Zukünftige Forschungsarbeiten werden die mechanischen und physikalischen Eigenschaften bei erhöhten Temperaturen untersuchen und mögliche Anwendungsmöglichkeiten bewerten.

Item URL in elib:https://elib.dlr.de/220063/
Document Type:Conference or Workshop Item (Poster)
Title:Additive Fertigung von ausscheidungsfähigen niedriglegierten Kupferlegierungen mit Chrom und Hafnium
Authors:
AuthorsInstitution or Email of AuthorsAuthor's ORCID iDORCID Put Code
Dölling, JuliaUNSPECIFIEDhttps://orcid.org/0000-0003-0820-4131UNSPECIFIED
Gruber, SamiraFraunhofer Institute for Material and Beam Technology (IWS)UNSPECIFIEDUNSPECIFIED
Kovermann, Felixcunova GmbHUNSPECIFIEDUNSPECIFIED
Stepien, LukasFraunhofer Institute for Material and Beam Technology (IWS)UNSPECIFIEDUNSPECIFIED
Beeh, ElmarUNSPECIFIEDhttps://orcid.org/0000-0003-1857-1330UNSPECIFIED
Lopez, ElenaFraunhofer Institute for Material and Beam Technology (IWS)UNSPECIFIEDUNSPECIFIED
Leyens, ChristophFraunhofer Institute for Material and Beam Technology (IWS)UNSPECIFIEDUNSPECIFIED
Wobker, Hans-Guentercunova GmbHUNSPECIFIEDUNSPECIFIED
Zilly, AndreasDHBW StuttgartUNSPECIFIEDUNSPECIFIED
Date:November 2025
Refereed publication:Yes
Open Access:Yes
Gold Open Access:No
In SCOPUS:No
In ISI Web of Science:No
Status:Published
Keywords:Kupferlegierung; Ausscheidungsfähigkeit; Festigkeit; CuHfCr, Additive Fertigung
Event Title:Kupfersymposium 2025
Event Location:Schwäbisch Gmünd
Event Type:national Conference
Event Start Date:12 November 2025
Event End Date:13 November 2025
Organizer:Kupferverband e.V.
HGF - Research field:Aeronautics, Space and Transport
HGF - Program:Transport
HGF - Program Themes:Road Transport
DLR - Research area:Transport
DLR - Program:V ST Straßenverkehr
DLR - Research theme (Project):V - FFAE - Fahrzeugkonzepte, Fahrzeugstruktur, Antriebsstrang und Energiemanagement
Location: Stuttgart
Institutes and Institutions:Institute of Vehicle Concepts
Deposited By: Dölling, Julia
Deposited On:08 Jan 2026 14:50
Last Modified:08 Jan 2026 14:50

Repository Staff Only: item control page

Browse
Search
Help & Contact
Information
OpenAIRE Validator logo electronic library is running on EPrints 3.3.12
Website and database design: Copyright © German Aerospace Center (DLR). All rights reserved.