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Brauch, U. und Hoffmann, T. und Springer, R. (2000) Die optische Lithographie eine Schlüsseltechnologie der Mikrostrukturierung. LaserOpto, 32 (4), Seiten 59-66.
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| elib-URL des Eintrags: | https://elib.dlr.de/2098/ | ||||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Dokumentart: | Zeitschriftenbeitrag | ||||||||||||||||
| Zusätzliche Informationen: | LIDO-Berichtsjahr=2001, | ||||||||||||||||
| Titel: | Die optische Lithographie eine Schlüsseltechnologie der Mikrostrukturierung | ||||||||||||||||
| Autoren: |
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| Datum: | 2000 | ||||||||||||||||
| Erschienen in: | LaserOpto | ||||||||||||||||
| Referierte Publikation: | Ja | ||||||||||||||||
| Open Access: | Nein | ||||||||||||||||
| Gold Open Access: | Nein | ||||||||||||||||
| In SCOPUS: | Nein | ||||||||||||||||
| In ISI Web of Science: | Ja | ||||||||||||||||
| Band: | 32 | ||||||||||||||||
| Seitenbereich: | Seiten 59-66 | ||||||||||||||||
| Status: | veröffentlicht | ||||||||||||||||
| Stichwörter: | Optical lithography, pattern generator, wafer stepper, minimum feature size, depth of focus, wavelength, numerical aperture, mask reticle, enthancement techniques, off-axis illumination, optical proximity correction, phase-shift masks, laser direct writer, laser diode, pixel head, writing strategy, throughput. | ||||||||||||||||
| HGF - Forschungsbereich: | Energie | ||||||||||||||||
| HGF - Programm: | Luftfahrt | ||||||||||||||||
| HGF - Programmthema: | keine Zuordnung | ||||||||||||||||
| DLR - Schwerpunkt: | Energie | ||||||||||||||||
| DLR - Forschungsgebiet: | L - keine Zuordnung | ||||||||||||||||
| DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben): | L - Laserforschung und -technologie (alt) | ||||||||||||||||
| Standort: | Stuttgart | ||||||||||||||||
| Institute & Einrichtungen: | Institut für Technische Physik | ||||||||||||||||
| Hinterlegt von: | DLR-Beauftragter, elib | ||||||||||||||||
| Hinterlegt am: | 16 Sep 2005 | ||||||||||||||||
| Letzte Änderung: | 06 Jan 2010 14:41 |
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