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Wöhl, G. and Dudek, V. and Graf, M. and Kibbel, H. and Herzog, H.-J. and Klose, M. (2000) Relaxed Si0.7Ge0.3 buffer layers grown on patterned silicon substrates for SiGe n-channel HMOSFETs. Thin Solids Films, 369 (1-2), pp. 175-181.
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| Item URL in elib: | https://elib.dlr.de/2048/ | ||||||||||||||||||||||||||||
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| Document Type: | Article | ||||||||||||||||||||||||||||
| Additional Information: | LIDO-Berichtsjahr=1999, | ||||||||||||||||||||||||||||
| Title: | Relaxed Si0.7Ge0.3 buffer layers grown on patterned silicon substrates for SiGe n-channel HMOSFETs | ||||||||||||||||||||||||||||
| Authors: |
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| Date: | 2000 | ||||||||||||||||||||||||||||
| Journal or Publication Title: | Thin Solids Films | ||||||||||||||||||||||||||||
| Refereed publication: | Yes | ||||||||||||||||||||||||||||
| Open Access: | No | ||||||||||||||||||||||||||||
| Gold Open Access: | No | ||||||||||||||||||||||||||||
| In SCOPUS: | No | ||||||||||||||||||||||||||||
| In ISI Web of Science: | Yes | ||||||||||||||||||||||||||||
| Volume: | 369 | ||||||||||||||||||||||||||||
| Page Range: | pp. 175-181 | ||||||||||||||||||||||||||||
| Status: | Published | ||||||||||||||||||||||||||||
| HGF - Research field: | Energy | ||||||||||||||||||||||||||||
| HGF - Program: | Aeronautics | ||||||||||||||||||||||||||||
| HGF - Program Themes: | other | ||||||||||||||||||||||||||||
| DLR - Research area: | Energy | ||||||||||||||||||||||||||||
| DLR - Program: | L - no assignment | ||||||||||||||||||||||||||||
| DLR - Research theme (Project): | L - Laser Research and Technology (old) | ||||||||||||||||||||||||||||
| Location: | Stuttgart | ||||||||||||||||||||||||||||
| Institutes and Institutions: | Institute of Technical Physics | ||||||||||||||||||||||||||||
| Deposited By: | DLR-Beauftragter, elib | ||||||||||||||||||||||||||||
| Deposited On: | 16 Sep 2005 | ||||||||||||||||||||||||||||
| Last Modified: | 06 Jan 2010 14:37 |
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