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Wöhl, G. and Dudek, V. and Graf, M. and Kibbel, H. and Herzog, H.-J. and Klose, M. (2000) Relaxed Si0.7Ge0.3 buffer layers grown on patterned silicon substrates for SiGe n-channel HMOSFETs. Thin Solids Films, 369 (1-2), pp. 175-181.
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| Item URL in elib: | https://elib.dlr.de/2048/ | |||||||||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Document Type: | Article | |||||||||||||||||||||
| Additional Information: | LIDO-Berichtsjahr=1999, | |||||||||||||||||||||
| Title: | Relaxed Si0.7Ge0.3 buffer layers grown on patterned silicon substrates for SiGe n-channel HMOSFETs | |||||||||||||||||||||
| Authors: |
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| Date: | 2000 | |||||||||||||||||||||
| Journal or Publication Title: | Thin Solids Films | |||||||||||||||||||||
| Refereed publication: | Yes | |||||||||||||||||||||
| Open Access: | No | |||||||||||||||||||||
| Gold Open Access: | No | |||||||||||||||||||||
| In SCOPUS: | No | |||||||||||||||||||||
| In ISI Web of Science: | Yes | |||||||||||||||||||||
| Volume: | 369 | |||||||||||||||||||||
| Page Range: | pp. 175-181 | |||||||||||||||||||||
| Status: | Published | |||||||||||||||||||||
| HGF - Research field: | Energy | |||||||||||||||||||||
| HGF - Program: | Aeronautics | |||||||||||||||||||||
| HGF - Program Themes: | other | |||||||||||||||||||||
| DLR - Research area: | Energy | |||||||||||||||||||||
| DLR - Program: | L - no assignment | |||||||||||||||||||||
| DLR - Research theme (Project): | L - Laser Research and Technology (old) | |||||||||||||||||||||
| Location: | Stuttgart | |||||||||||||||||||||
| Institutes and Institutions: | Institute of Technical Physics | |||||||||||||||||||||
| Deposited By: | DLR-Beauftragter, elib | |||||||||||||||||||||
| Deposited On: | 16 Sep 2005 | |||||||||||||||||||||
| Last Modified: | 06 Jan 2010 14:37 |
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