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Characterization of GaN epilayers grown on sapphire and SiC substrates

Wieser, N. und Klose, M. und Scholz, F. und Off, J. und Dutrieux, Y. (1998) Characterization of GaN epilayers grown on sapphire and SiC substrates. In: Silicon Carbide, III-Nitrides and Related Materials, Materials Science Forum Fols. 264-268 (1998, Seiten 1355-1358. Trans Tech Publications, Schweiz. International Conference on Silicon Carbide, III-Nitrides and Related Materials, Stockholm, Schweden, September 1997.

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elib-URL des Eintrags:https://elib.dlr.de/2039/
Dokumentart:Konferenzbeitrag (Paper)
Zusätzliche Informationen: LIDO-Berichtsjahr=1999,
Titel:Characterization of GaN epilayers grown on sapphire and SiC substrates
Autoren:
AutorenInstitution oder E-Mail-AdresseAutoren-ORCID-iDORCID Put Code
Wieser, N.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Klose, M.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Scholz, F.4.Physik.Institut, Universität StuttgartNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Off, J.4.Physik.Institut, Universität StuttgartNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Dutrieux, Y.4.Physik.Institut, Universität StuttgartNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Datum:1998
Erschienen in:Silicon Carbide, III-Nitrides and Related Materials
Open Access:Nein
Gold Open Access:Nein
In SCOPUS:Nein
In ISI Web of Science:Nein
Band:Materials Science Forum Fols. 264-268 (1998
Seitenbereich:Seiten 1355-1358
Herausgeber:
HerausgeberInstitution und/oder E-Mail-Adresse der HerausgeberHerausgeber-ORCID-iDORCID Put Code
Pensl, G.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Morkoc, H.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Monemar, B.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Janzen, E.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Verlag:Trans Tech Publications, Schweiz
Status:veröffentlicht
Stichwörter:Raman scattering, strain, carrier concentration
Veranstaltungstitel:International Conference on Silicon Carbide, III-Nitrides and Related Materials, Stockholm, Schweden, September 1997
HGF - Forschungsbereich:Energie
HGF - Programm:Luftfahrt
HGF - Programmthema:keine Zuordnung
DLR - Schwerpunkt:Energie
DLR - Forschungsgebiet:L - keine Zuordnung
DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):L - Laserforschung und -technologie (alt)
Standort: Stuttgart
Institute & Einrichtungen:Institut für Technische Physik
Hinterlegt von: DLR-Beauftragter, elib
Hinterlegt am:16 Sep 2005
Letzte Änderung:06 Jan 2010 14:36

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