Silicon tracer diffusion in single crystalline 2/1-mullite measured by SIMS depth profiling

Fielitz, P. und Borchardt, G. und Schmücker, M. und Schneider, H. (2003) Silicon tracer diffusion in single crystalline 2/1-mullite measured by SIMS depth profiling. Physical Chemistry Chemical Physics, 5 (11), Seiten 2279-2282.

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Dokumentart:

Zeitschriftenbeitrag

Zusätzliche Informationen:

LIDO-Berichtsjahr=2003,

Titel:

Silicon tracer diffusion in single crystalline 2/1-mullite measured by SIMS depth profiling

Autoren:

Autoren	Institution oder E-Mail-Adresse	Autoren-ORCID-iD	ORCID Put Code
Fielitz, P.	Technische Universität Clausthal, Institut für Metallurgie, Clausthal-Zellerfeld, Germany	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Borchardt, G.	Technische Universität Clausthal, Institut für Metallurgie, Clausthal-Zellerfeld, Germany	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Schmücker, M.	Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt, Institut für Werkstoff-Forschung, Köln, Germany	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Schneider, H.	Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt, Institut für Werkstoff-Forschung, Köln, Germany	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT

Datum:

2003

Erschienen in:

Physical Chemistry Chemical Physics

Referierte Publikation:

Open Access:

Nein

Gold Open Access:

Nein

In SCOPUS:

Nein

In ISI Web of Science:

Band:

Seitenbereich:

Seiten 2279-2282

Status:

veröffentlicht

HGF - Forschungsbereich:

Verkehr und Weltraum (alt)

HGF - Programm:

Luftfahrt

HGF - Programmthema:

Antriebe (alt)

DLR - Schwerpunkt:

Luftfahrt

DLR - Forschungsgebiet:

L ER - Antriebsforschung

DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):

NICHT SPEZIFIZIERT

Standort:

Köln-Porz

Institute & Einrichtungen:

Institut für Werkstoff-Forschung

Hinterlegt von:

DLR-Beauftragter, elib

Hinterlegt am:

16 Sep 2005

Letzte Änderung:

14 Jan 2010 17:52

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