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Constitution and Crystallization Behaviour of Ultrathin Physical Vapor Deposited (PVD) Al2O3/SiO2 Laminates

Schmücker, M. und Hoffbauer, W. und Schneider, H. (2001) Constitution and Crystallization Behaviour of Ultrathin Physical Vapor Deposited (PVD) Al2O3/SiO2 Laminates. Journal of the European Ceramic Society, 21 (14), Seiten 2503-2507.

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elib-URL des Eintrags:https://elib.dlr.de/17278/
Dokumentart:Zeitschriftenbeitrag
Zusätzliche Informationen: LIDO-Berichtsjahr=2001,
Titel:Constitution and Crystallization Behaviour of Ultrathin Physical Vapor Deposited (PVD) Al2O3/SiO2 Laminates
Autoren:
AutorenInstitution oder E-Mail-AdresseAutoren-ORCID-iDORCID Put Code
Schmücker, M.German Aerospace Center, Institute of Materials Research, Köln, GermanyNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Hoffbauer, W.University of Bonn, Institute of Inorganic Chemistry, Bonn, GermanyNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Schneider, H.German Aerospace Center, Institute of Materials Research, Köln, GermanyNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Datum:2001
Erschienen in:Journal of the European Ceramic Society
Referierte Publikation:Ja
Open Access:Nein
Gold Open Access:Nein
In SCOPUS:Nein
In ISI Web of Science:Ja
Band:21
Seitenbereich:Seiten 2503-2507
Status:veröffentlicht
HGF - Forschungsbereich:Verkehr und Weltraum (alt)
HGF - Programm:Luftfahrt
HGF - Programmthema:keine Zuordnung
DLR - Schwerpunkt:Luftfahrt
DLR - Forschungsgebiet:L TT - Triebwerkstechnologien
DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):NICHT SPEZIFIZIERT
Standort: Köln-Porz
Institute & Einrichtungen:Institut für Werkstoff-Forschung
Hinterlegt von: DLR-Beauftragter, elib
Hinterlegt am:16 Sep 2005
Letzte Änderung:14 Jan 2010 17:30

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