Constitution and Crystallization Behaviour of Ultrathin Physical Vapor Deposited (PVD) Al2O3/SiO2 Laminates

Schmücker, M. und Hoffbauer, W. und Schneider, H. (2001) Constitution and Crystallization Behaviour of Ultrathin Physical Vapor Deposited (PVD) Al2O3/SiO2 Laminates. Journal of the European Ceramic Society, 21 (14), Seiten 2503-2507.

Dieses Archiv kann nicht den Volltext zur Verfügung stellen.

elib-URL des Eintrags:

https://elib.dlr.de/17278/

Dokumentart:

Zeitschriftenbeitrag

Zusätzliche Informationen:

LIDO-Berichtsjahr=2001,

Titel:

Constitution and Crystallization Behaviour of Ultrathin Physical Vapor Deposited (PVD) Al2O3/SiO2 Laminates

Autoren:

Autoren	Institution oder E-Mail-Adresse	Autoren-ORCID-iD	ORCID Put Code
Schmücker, M.	German Aerospace Center, Institute of Materials Research, Köln, Germany	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Hoffbauer, W.	University of Bonn, Institute of Inorganic Chemistry, Bonn, Germany	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Schneider, H.	German Aerospace Center, Institute of Materials Research, Köln, Germany	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT

Datum:

2001

Erschienen in:

Journal of the European Ceramic Society

Referierte Publikation:

Open Access:

Nein

Gold Open Access:

Nein

In SCOPUS:

Nein

In ISI Web of Science:

Band:

Seitenbereich:

Seiten 2503-2507

Status:

veröffentlicht

HGF - Forschungsbereich:

Verkehr und Weltraum (alt)

HGF - Programm:

Luftfahrt

HGF - Programmthema:

keine Zuordnung

DLR - Schwerpunkt:

Luftfahrt

DLR - Forschungsgebiet:

L TT - Triebwerkstechnologien

DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):

NICHT SPEZIFIZIERT

Standort:

Köln-Porz

Institute & Einrichtungen:

Institut für Werkstoff-Forschung

Hinterlegt von:

DLR-Beauftragter, elib

Hinterlegt am:

16 Sep 2005

Letzte Änderung:

14 Jan 2010 17:30

Nur für Mitarbeiter des Archivs: Kontrollseite des Eintrags