Structural and Functional Properties of the Thin-Film System Ti-Ni-Si

Wambach, Matthias und Ziolkowski, Pawel und Müller, Eckhard und Ludwig, Alfred (2019) Structural and Functional Properties of the Thin-Film System Ti-Ni-Si. ACS Combinatorial Science. American Chemical society (ACS). doi: 10.1021/acscombsci.8b00181. ISSN 2156-8952.

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Kurzfassung

The thin film system Ti–Ni–Si was investigated using methods of combinatorial materials science. A thin film composition spread library of the system was fabricated using combinatorial magnetron sputtering. The functional properties Seebeck coefficient, electrical resistivity, and luminance were determined using high-throughput characterization techniques. A thin-film phase diagram was established by the assessment of high-throughput X-ray diffraction results. Correlations between composition, phase constitution, and functional properties with focus on the binary composition space are discussed.

elib-URL des Eintrags:

https://elib.dlr.de/130518/

Dokumentart:

Zeitschriftenbeitrag

Titel:

Structural and Functional Properties of the Thin-Film System Ti-Ni-Si

Autoren:

Autoren	Institution oder E-Mail-Adresse	Autoren-ORCID-iD	ORCID Put Code
Wambach, Matthias	Chair of MEMS Materials, Institute for Materials, Ruhr-University Bochum, Universitaetsstrasse 150, D-44801 Bochum, Germany	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Ziolkowski, Pawel	German Aerospace Center, Institute of Materials Research, Köln, Germany	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Müller, Eckhard	Institute of Materials Research, German Aerospace Center (DLR), Institute of Materials Research – Thermoelectric Materials and Systems, 51147 Köln Porz-Wahnheide, Linder Höhe, Germany and Justus Liebig University Giessen, Institute of Inorganic and Analyt	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Ludwig, Alfred	Chair of MEMS Materials, Institute for Materials, Ruhr-University Bochum, Universitaetsstrasse 150, D-44801 Bochum, Germany	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT

Datum:

1 März 2019

Erschienen in:

ACS Combinatorial Science

Referierte Publikation:

Open Access:

Gold Open Access:

Nein

In SCOPUS:

In ISI Web of Science:

DOI:

10.1021/acscombsci.8b00181

Verlag:

American Chemical society (ACS)

ISSN:

2156-8952

Status:

veröffentlicht

Stichwörter:

Thin films; sputtering; Seebeck coefficient; structure−property relationships

HGF - Forschungsbereich:

Luftfahrt, Raumfahrt und Verkehr

HGF - Programm:

Verkehr

HGF - Programmthema:

Straßenverkehr

DLR - Schwerpunkt:

Verkehr

DLR - Forschungsgebiet:

V ST Straßenverkehr

DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):

V - NGC Antriebssystem und Energiemanagement (alt)

Standort:

Köln-Porz

Institute & Einrichtungen:

Institut für Werkstoff-Forschung > Thermoelektrische Materialien und Systeme

Hinterlegt von:

Yasseri, Mohammad

Hinterlegt am:

14 Nov 2019 17:36

Letzte Änderung:

01 Mär 2020 03:00

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