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Ideal gas thermochemical properties of silicon containing inorganic, organic compounds, radicals, and ions

Burcat, Alexander und Goos, Elke (2018) Ideal gas thermochemical properties of silicon containing inorganic, organic compounds, radicals, and ions. International Journal of Chemical Kinetics, 50, Seiten 633-650. Wiley. doi: 10.1002/kin.21188. ISSN 0538-8066.

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Offizielle URL: http://dx.doi.org/10.1002/kin.21188


elib-URL des Eintrags:https://elib.dlr.de/123629/
Dokumentart:Zeitschriftenbeitrag
Titel:Ideal gas thermochemical properties of silicon containing inorganic, organic compounds, radicals, and ions
Autoren:
AutorenInstitution oder E-Mail-AdresseAutoren-ORCID-iDORCID Put Code
Burcat, AlexanderFaculty of Aerospace Engineering, Technion–Israel Institute of Technology, Haifa, IsraelNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Goos, ElkeNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Datum:2018
Erschienen in:International Journal of Chemical Kinetics
Referierte Publikation:Ja
Open Access:Ja
Gold Open Access:Nein
In SCOPUS:Ja
In ISI Web of Science:Ja
Band:50
DOI:10.1002/kin.21188
Seitenbereich:Seiten 633-650
Verlag:Wiley
ISSN:0538-8066
Status:veröffentlicht
Stichwörter:database, enthalpy, entropy, G3B3 composite approach, heat capacity, heat of formation, NASA format, quantum chemical calculation, silanes, silicon compounds, silicon fluoride, silicon hydride, silicon hydrocarbon, silicon ions, thermochemical properties, thermochemistry, thermodynamic data
HGF - Forschungsbereich:Energie
HGF - Programm:Energieeffizienz, Materialien und Ressourcen
HGF - Programmthema:Effiziente Nutzung von Brennstoffressourcen
DLR - Schwerpunkt:Energie
DLR - Forschungsgebiet:E VS - Verbrennungssysteme
DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):E - Brennstoffe (alt)
Standort: Stuttgart
Institute & Einrichtungen:Institut für Verbrennungstechnik > Chemische Kinetik
Hinterlegt von: Geigle, Dr. Klaus Peter
Hinterlegt am:29 Nov 2018 06:27
Letzte Änderung:09 Dez 2019 09:52

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