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Thermal Stability of Magnesium Silicide/Nickel Contacts

de Boor, Johannes und Droste, D. und Schneider, C. und Janek, J. und Müller, Eckhard (2016) Thermal Stability of Magnesium Silicide/Nickel Contacts. Journal of Electronic Materials, 45 (10), Seiten 5313-5320. Springer. doi: 10.1007/s11664-016-4716-x. ISSN 0361-5235.

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Offizielle URL: http://dx.doi.org/10.1007/s11664-016-4716-x

Kurzfassung

Magnesium silicide-based materials are a very promising class of thermoelectric materials with excellent potential for thermoelectric waste heat recovery. For the successful application of magnesium silicide-based thermoelectric generators, the development of long-term stable contacts with low contact resistance is as important as material optimization. We have therefore studied the suitability of Ni as a contact material for magnesium silicide. Co-sintering of magnesium silicide and Ni leads to the formation of a stable reaction layer with low electrical resistance. In this paper we show that the contacts retain their low electrical contact resistance after annealing at temperatures up to 823 K for up to 168 h. By employing scanning electron microscope analysis and time-of-flight (ToF)–secondary ion mass spectrometry, we can further show that elemental diffusion is occurring to a very limited extent. This indicates long-term stability under practical operation conditions for magnesium silicide/nickel contacts.

elib-URL des Eintrags:https://elib.dlr.de/108703/
Dokumentart:Zeitschriftenbeitrag
Titel:Thermal Stability of Magnesium Silicide/Nickel Contacts
Autoren:
AutorenInstitution oder E-Mail-AdresseAutoren-ORCID-iDORCID Put Code
de Boor, JohannesGerman aerospace center, institute of materials research, köln, germanyhttps://orcid.org/0000-0002-1868-3167NICHT SPEZIFIZIERT
Droste, D.German aerospace center, Institute of materials research, Köln, GermanyNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Schneider, C.Institue of Physical Chemistry, Justus-Liebig-Universität Gießen, Giessen, GermanyNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Janek, J.Institue of Physical Chemistry, Justus-Liebig-Universität Gießen, Giessen, GermanyNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Müller, EckhardGerman aerospace center, Institute of materials research, Köln, Germany and Justus Liebig university Giessen, Institute of inorganic and analytical chemistry, 35392 Giessen, GermanyNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Datum:15 Juni 2016
Erschienen in:Journal of Electronic Materials
Referierte Publikation:Ja
Open Access:Nein
Gold Open Access:Nein
In SCOPUS:Ja
In ISI Web of Science:Ja
Band:45
DOI:10.1007/s11664-016-4716-x
Seitenbereich:Seiten 5313-5320
Verlag:Springer
ISSN:0361-5235
Status:veröffentlicht
Stichwörter:Thermoelectric, Thermoelectric generator, Silicide contact development, Thermal stability
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Hinterlegt von: Yasseri, Mohammad
Hinterlegt am:05 Dez 2016 07:34
Letzte Änderung:08 Nov 2023 15:22

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