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Terahertz absorption and emission upon the photoionization of acceptors in uniaxially stressed silicon

Zhukavin, R.Kh. und Kovalevsky, K. A. und Orlov, M.L. und Tsyplenkov, V.V. und Hübers, Heinz-Wilhelm und Deßmann, Nils und Kozlov, D. V. und Shastin, V.N. (2016) Terahertz absorption and emission upon the photoionization of acceptors in uniaxially stressed silicon. Semiconductors, 50 (11), Seiten 1458-1462. Springer. doi: 10.1134/S1063782616110270. ISSN 1063-7826.

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244kB

Offizielle URL: https://link.springer.com/article/10.1134/S1063782616110270

Kurzfassung

Experimental data on the spontaneous emission and absorption modulation in boron-doped silicon under CO2 laser excitation depending on the uniaxial stress applied along the [001] and [011] crystallographic directions are presented. Room-temperature radiation is used as the probe radiation. Low stress (less than 0.5 kbar) is shown to reduce losses in the terahertz region by 20%. The main contribution to absorption modulation at zero and low stress is made by A+ centers. Intersubband free hole transitions additionally contribute to terahertz absorption at higher stress. These contributions can be minimized by compensation.

elib-URL des Eintrags:https://elib.dlr.de/107659/
Dokumentart:Zeitschriftenbeitrag
Titel:Terahertz absorption and emission upon the photoionization of acceptors in uniaxially stressed silicon
Autoren:
AutorenInstitution oder E-Mail-AdresseAutoren-ORCID-iDORCID Put Code
Zhukavin, R.Kh.Institute for Physics of Microstructures, Russian Academy of Sciences, Nizhny Novgorod, RussiaNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Kovalevsky, K. A.Institute for Physics and Microstructures, Russian Academy of Sciences, Nizhny Novgorod, RussiaNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Orlov, M.L.Institute for Physics and Microstructures, Russian Academy of Sciences, Nizhny Novgorod, RussiaNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Tsyplenkov, V.V.Institute for Physics of Microstructures, Russain Academy of SciencesNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Hübers, Heinz-WilhelmHeinz-Wilhelm.Huebers (at) dlr.deNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Deßmann, NilsNils.Dessmann (at) dlr.deNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Kozlov, D. V.Institute for Physics of Microstructures, Russian Academy of Sciences, Nizhny Novgorod, RussiaNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Shastin, V.N.Institute for Physics of Microstructures, Russian Academy of Sciences, Nizhny Novgorod, RussiaNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Datum:10 Mai 2016
Erschienen in:Semiconductors
Referierte Publikation:Ja
Open Access:Nein
Gold Open Access:Nein
In SCOPUS:Ja
In ISI Web of Science:Ja
Band:50
DOI:10.1134/S1063782616110270
Seitenbereich:Seiten 1458-1462
Verlag:Springer
ISSN:1063-7826
Status:veröffentlicht
Stichwörter:THz, Stimulated emission, Silicon, Laser
HGF - Forschungsbereich:Luftfahrt, Raumfahrt und Verkehr
HGF - Programm:Raumfahrt
HGF - Programmthema:Technik für Raumfahrtsysteme
DLR - Schwerpunkt:Raumfahrt
DLR - Forschungsgebiet:R SY - Technik für Raumfahrtsysteme
DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):R - Vorhaben OptoRob (alt)
Standort: Berlin-Adlershof
Institute & Einrichtungen:Institut für Optische Sensorsysteme
Hinterlegt von: Deßmann, Nils
Hinterlegt am:11 Nov 2016 11:48
Letzte Änderung:01 Dez 2018 19:52

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