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Highly-Parallel Laser Lithography

Brauch, U. und Colletto, C. und Höfflinger, B. und Hoffmann, T. und Menschig, A. und Opower, H. und Scharl, S. und Schomburg, C. und Springer, R. (1999) Highly-Parallel Laser Lithography. In: precision engineering-nanotechnology: Proc. of the 1st International euspen Conf. Berichte aus der Fertigungstechnik, Vol.1. Shaker Verlag, Aachen. ISBN 3-8265-6085-X.

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Dokumentart:Beitrag im Sammelband
Zusätzliche Informationen: LIDO-Berichtsjahr=1999,
Titel:Highly-Parallel Laser Lithography
Autoren:
AutorenInstitution oder E-Mail-Adresse der Autoren
Brauch, U.NICHT SPEZIFIZIERT
Colletto, C.NICHT SPEZIFIZIERT
Höfflinger, B.NICHT SPEZIFIZIERT
Hoffmann, T.NICHT SPEZIFIZIERT
Menschig, A.NICHT SPEZIFIZIERT
Opower, H.NICHT SPEZIFIZIERT
Scharl, S.NICHT SPEZIFIZIERT
Schomburg, C.NICHT SPEZIFIZIERT
Springer, R.NICHT SPEZIFIZIERT
Datum:1999
Erschienen in:precision engineering-nanotechnology: Proc. of the 1st International euspen Conf.
Referierte Publikation:Ja
In ISI Web of Science:Nein
Band:Vol.1
Herausgeber:
HerausgeberInstitution und/oder E-Mail-Adresse der Herausgeber
McKeown, P.NICHT SPEZIFIZIERT
Corbett, J.NICHT SPEZIFIZIERT
Bonis, M.NICHT SPEZIFIZIERT
Sartori, S.NICHT SPEZIFIZIERT
Kunzmann, H.NICHT SPEZIFIZIERT
Weck, M.NICHT SPEZIFIZIERT
Brinksmeier, E.NICHT SPEZIFIZIERT
Preuß, W.NICHT SPEZIFIZIERT
Riemer, O.NICHT SPEZIFIZIERT
Verlag:Shaker Verlag, Aachen
Name der Reihe:Berichte aus der Fertigungstechnik
ISBN:3-8265-6085-X
Status:veröffentlicht
HGF - Forschungsbereich:Energie
HGF - Programm:Luftfahrt
HGF - Programmthema:keine Zuordnung
DLR - Schwerpunkt:Energie
DLR - Forschungsgebiet:L - keine Zuordnung
DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):L - Laserforschung und -technologie
Standort: Stuttgart
Institute & Einrichtungen:Institut für Technische Physik
Hinterlegt von: elib DLR-Beauftragter
Hinterlegt am:16 Sep 2005
Letzte Änderung:06 Jan 2010 14:38

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