Atomic Hydrogen Concentration Profiles at Filaments Used for Chemical Vapor Deposition of Diamond

Schäfer, L. und Klages, C.P. und Meier, U. und Kohse-Höinghaus, K. (1991) Atomic Hydrogen Concentration Profiles at Filaments Used for Chemical Vapor Deposition of Diamond. Appl. Phys. Lett., 58, Seiten 571-573.

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Dokumentart:

Zeitschriftenbeitrag

Zusätzliche Informationen:

LIDO-Berichtsjahr=1991,

Titel:

Atomic Hydrogen Concentration Profiles at Filaments Used for Chemical Vapor Deposition of Diamond

Autoren:

Autoren	Institution oder E-Mail-Adresse	Autoren-ORCID-iD	ORCID Put Code
Schäfer, L.	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Klages, C.P.	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Meier, U.	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Kohse-Höinghaus, K.	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT

Datum:

1991

Erschienen in:

Appl. Phys. Lett.

Referierte Publikation:

Open Access:

Nein

Gold Open Access:

Nein

In SCOPUS:

Nein

In ISI Web of Science:

Band:

Seitenbereich:

Seiten 571-573

Status:

veröffentlicht

HGF - Forschungsbereich:

Energie

HGF - Programm:

keine Zuordnung

HGF - Programmthema:

keine Zuordnung

DLR - Schwerpunkt:

Energie

DLR - Forschungsgebiet:

keine Zuordnung

DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):

NICHT SPEZIFIZIERT

Standort:

Stuttgart

Institute & Einrichtungen:

Institut für Verbrennungstechnik > Institut für Physikalische Chemie der Verbrennung

Hinterlegt von:

DLR-Beauftragter, elib

Hinterlegt am:

02 Apr 2006

Letzte Änderung:

27 Apr 2009 06:10

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