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Production of Mo-doped Raney-Nickel Electrodes Applying Vacuum Plasma Spraying.

Henne, R. und Kayser, A. und Borck, V. und Schiller, G. (1992) Production of Mo-doped Raney-Nickel Electrodes Applying Vacuum Plasma Spraying. In: Proc. Int. Thermal Spray Conf. (ITSC) 1992. Proc. Int. Thermal Spray Conf. (ITSC) '92, Orlando, FL, USA, 28th May - 5th June 1992.

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elib-URL des Eintrags:https://elib.dlr.de/25847/
Dokumentart:Konferenzbeitrag (Paper)
Zusätzliche Informationen: LIDO-Berichtsjahr=1992, pages=8,
Titel:Production of Mo-doped Raney-Nickel Electrodes Applying Vacuum Plasma Spraying.
Autoren:
AutorenInstitution oder E-Mail-AdresseAutoren-ORCID-iDORCID Put Code
Henne, R.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Kayser, A.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Borck, V.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Schiller, G.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Datum:1992
Erschienen in:Proc. Int. Thermal Spray Conf. (ITSC) 1992
Open Access:Nein
Gold Open Access:Nein
In SCOPUS:Nein
In ISI Web of Science:Nein
Status:veröffentlicht
Veranstaltungstitel:Proc. Int. Thermal Spray Conf. (ITSC) '92, Orlando, FL, USA, 28th May - 5th June 1992
HGF - Forschungsbereich:NICHT SPEZIFIZIERT
HGF - Programm:keine Zuordnung
HGF - Programmthema:E - keine Zuordnung
DLR - Schwerpunkt:NICHT SPEZIFIZIERT
DLR - Forschungsgebiet:E - keine Zuordnung
DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):NICHT SPEZIFIZIERT
Standort: Stuttgart
Institute & Einrichtungen:Institut für Technische Thermodynamik
Hinterlegt von: DLR-Beauftragter, elib
Hinterlegt am:02 Apr 2006
Letzte Änderung:27 Apr 2009 05:58

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