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Low temperature thermal and electrical resisitivity in a Pd-Cu-Si metallic glass

Herlach, D.M. und Kaiser, A.B. und Kästner, J. (1988) Low temperature thermal and electrical resisitivity in a Pd-Cu-Si metallic glass. MaterialsScience and Engineering A, 99, Seiten 231-233.

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elib-URL des Eintrags:https://elib.dlr.de/21520/
Dokumentart:Zeitschriftenbeitrag
Titel:Low temperature thermal and electrical resisitivity in a Pd-Cu-Si metallic glass
Autoren:
AutorenInstitution oder E-Mail-AdresseAutoren-ORCID-iDORCID Put Code
Herlach, D.M.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Kaiser, A.B.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Kästner, J.NICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERTNICHT SPEZIFIZIERT
Datum:1988
Erschienen in:MaterialsScience and Engineering A
Referierte Publikation:Ja
Open Access:Nein
Gold Open Access:Nein
In SCOPUS:Nein
In ISI Web of Science:Ja
Band:99
Seitenbereich:Seiten 231-233
Status:veröffentlicht
Stichwörter:Unterkühlung von Materialien
HGF - Forschungsbereich:Verkehr und Weltraum (alt)
HGF - Programm:Weltraum (alt)
HGF - Programmthema:W FR - Forschung unter Weltraumbedingungen (alt)
DLR - Schwerpunkt:Weltraum
DLR - Forschungsgebiet:W FR - Forschung unter Weltraumbedingungen
DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):W - Vorhaben Materialwissenschaftliche Forschung (alt)
Standort: Köln-Porz
Institute & Einrichtungen:Institut für Materialphysik im Weltraum > Institut für Raumsimulation > Zentrum für die Erstarrung unterkühlter Schmelzen (ZEUS)
Hinterlegt von: Parpart, Ingeborg
Hinterlegt am:18 Jan 2006
Letzte Änderung:27 Apr 2009 04:55

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