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Charakterisierung von Oberflaechen mit Rauhigkeiten unter 0,1 nm.

Schmitt, D.-R. (1990) Charakterisierung von Oberflaechen mit Rauhigkeiten unter 0,1 nm. Kongress Microsystems, 10.-13. September 1990, Berlin.

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Abstract

Bei der Miniaturisierung von Mikrosystemen stoesst man an Grenzen, die durch die Mikrorauhigkeit der verwendeten Oberflaechen vorgegeben sind. Daher kommt der Entwicklung und Charakterisierung von Oberflaechen mit Rauhigkeiten unter 0,1 nm eine Schluesselrolle zu. Superpolierte Oberflaechen wurden bei der DLR aus BK7, Quarzglas, Zerodur und Silizium entwickelt und charakterisiert. Zur Charakterisierung der Oberflaechen wurde die Differential- Interferenzkontrast-Mikroskopie nach Nomarski eingesetzt. Unter Verwendung einer ausgesuchten Objektiv-Prisma-Kombination mit minimiertem internen Streulicht konnten Rauhigkeiten unter 0,05 nm aufgeloest und kontrastreich abgebildet werden. Um quantitative Informationen zu erhalten, wurde die Rauhigkeit der Oberflaechen mit Hilfe von Streulichtmessungen, mit Phasenverschiebungs- Interferometrie, mit Heterodyn-Profilometrie und mit mechanischer Abtastung ermittelt. Es wird demonstriert, dass es moeglich ist, superpolierte Oberflaechen mit Rauhigkeiten unter 0,05 nm herzustellen und zu charakterisieren.

Document Type:Conference or Workshop Item (Speech)
Additional Information: LIDO-Berichtsjahr=1990,
Title:Charakterisierung von Oberflaechen mit Rauhigkeiten unter 0,1 nm.
Authors:
AuthorsInstitution or Email of Authors
Schmitt, D.-R.UNSPECIFIED
Date:1990
Status:Published
Keywords:Oberflaeche, Rauhigkeit
Event Title:Kongress Microsystems, 10.-13. September 1990, Berlin
HGF - Research field:UNSPECIFIED
HGF - Program:other
HGF - Program Themes:other
DLR - Research area:UNSPECIFIED
DLR - Program:no assignment
DLR - Research theme (Project):L -- no assignement
Location: Braunschweig
Institutes and Institutions:Institute of Flight Control
Deposited By: elib DLR-Beauftragter
Deposited On:02 Apr 2006
Last Modified:27 Apr 2009 07:08

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