Charakterisierung von superpolierten Oberflächen mit Rauhigkeiten unter 0,1 mm

Kurzfassung

Bei der Entwicklung der Dünnschichttechnologie stößt man sehr schnell an Grenzen, die durch die Mikrorauhigkeit der verwendeten Oberflächen vorgegeben sind. Es können zum Beispiel hochreflektierende Spiegel für Hochleistungslaser nur auf Substraten mit Rauhigkeiten unter 0,1 nm in zufriedenstellender Qualität hergestellt werden. Daher kommt der Entwicklung und Charakterisierung von Oberflächen mit Rauhigkeiten unter 0,1 nm eine Schlüsselposition zu. Es wird demonstriert, daß es möglich ist, superpolierte Oberflächen mit Rauhigkeiten unter 0,05 nm herzustellen und zu charakterisieren.