Radio Frequency Plasma Processing to Produce Chromium Sputter Targets

Müller, M. und Heimann, R.B. und Gitzhofer, F. und Boulos, M.I. und Schwarz, K. (2000) Radio Frequency Plasma Processing to Produce Chromium Sputter Targets. Journal of Thermal Spray Technology, Volume 9 (4), Seiten 488-493.

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Dokumentart:

Zeitschriftenbeitrag

Zusätzliche Informationen:

LIDO-Berichtsjahr=2000,

Titel:

Radio Frequency Plasma Processing to Produce Chromium Sputter Targets

Autoren:

Autoren	Institution oder E-Mail-Adresse	Autoren-ORCID-iD	ORCID Put Code
Müller, M.	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Heimann, R.B.	TU Bergakademie Freiberg	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Gitzhofer, F.	Université de Sherbrooke	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Boulos, M.I.	Université de Sherbrooke	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT
Schwarz, K.	Freiberger Nichteisen-Metall	NICHT SPEZIFIZIERT	NICHT SPEZIFIZIERT

Datum:

2000

Erschienen in:

Journal of Thermal Spray Technology

Referierte Publikation:

Open Access:

Nein

Gold Open Access:

Nein

In SCOPUS:

Nein

In ISI Web of Science:

Band:

Volume 9

Seitenbereich:

Seiten 488-493

Status:

veröffentlicht

Stichwörter:

chromium target; copper substrate; powder spheroidization; RF plasma spraying; tensile adhesion

HGF - Forschungsbereich:

Energie

HGF - Programm:

keine Zuordnung

HGF - Programmthema:

E - keine Zuordnung

DLR - Schwerpunkt:

Energie

DLR - Forschungsgebiet:

E - keine Zuordnung

DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):

NICHT SPEZIFIZIERT

Standort:

Stuttgart

Institute & Einrichtungen:

Institut für Technische Thermodynamik

Hinterlegt von:

DLR-Beauftragter, elib

Hinterlegt am:

16 Sep 2005

Letzte Änderung:

06 Jan 2010 15:02

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