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Low temperature thermal and electrical resisitivity in a Pd-Cu-Si metallic glass

Herlach, D.M. und Kaiser, A.B. und Kästner, J. (1988) Low temperature thermal and electrical resisitivity in a Pd-Cu-Si metallic glass. MaterialsScience and Engineering A, 99, Seiten 231-233.

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Dokumentart:Zeitschriftenbeitrag
Titel:Low temperature thermal and electrical resisitivity in a Pd-Cu-Si metallic glass
Autoren:
AutorenInstitution oder E-Mail-Adresse der Autoren
Herlach, D.M.NICHT SPEZIFIZIERT
Kaiser, A.B.NICHT SPEZIFIZIERT
Kästner, J.NICHT SPEZIFIZIERT
Datum:1988
Erschienen in:MaterialsScience and Engineering A
Referierte Publikation:Ja
In ISI Web of Science:Ja
Band:99
Seitenbereich:Seiten 231-233
Status:veröffentlicht
Stichwörter:Unterkühlung von Materialien
HGF - Forschungsbereich:Verkehr und Weltraum (alt)
HGF - Programm:Weltraum (alt)
HGF - Programmthema:W FR - Forschung unter Weltraumbedingungen (alt)
DLR - Schwerpunkt:Weltraum
DLR - Forschungsgebiet:W FR - Forschung unter Weltraumbedingungen
DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):W - Vorhaben Materialwissenschaftliche Forschung (alt)
Standort: Köln-Porz
Institute & Einrichtungen:Institut für Materialphysik im Weltraum > Institut für Raumsimulation > Zentrum für die Erstarrung unterkühlter Schmelzen (ZEUS)
Hinterlegt von: Ingeborg Parpart
Hinterlegt am:18 Jan 2006
Letzte Änderung:27 Apr 2009 04:55

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