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Die optische Lithographie – eine Schlüsseltechnologie der Mikrostrukturierung

Brauch, U. und Hoffmann, T. und Springer, R. (2000) Die optische Lithographie – eine Schlüsseltechnologie der Mikrostrukturierung. LaserOpto, 32 (4), Seiten 59-66.

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Dokumentart:Zeitschriftenbeitrag
Zusätzliche Informationen: LIDO-Berichtsjahr=2001,
Titel:Die optische Lithographie – eine Schlüsseltechnologie der Mikrostrukturierung
Autoren:
AutorenInstitution oder E-Mail-Adresse der Autoren
Brauch, U.NICHT SPEZIFIZIERT
Hoffmann, T.Institut für Mikroelektronik Stuttgart,IMS
Springer, R.Institut für Mikroelektronik Stuttgart, IMS
Datum:2000
Erschienen in:LaserOpto
Referierte Publikation:Ja
In ISI Web of Science:Ja
Band:32
Seitenbereich:Seiten 59-66
Status:veröffentlicht
Stichwörter:Optical lithography, pattern generator, wafer stepper, minimum feature size, depth of focus, wavelength, numerical aperture, mask reticle, enthancement techniques, off-axis illumination, optical proximity correction, phase-shift masks, laser direct writer, laser diode, pixel head, writing strategy, throughput.
HGF - Forschungsbereich:Energie
HGF - Programm:Luftfahrt
HGF - Programmthema:keine Zuordnung
DLR - Schwerpunkt:Energie
DLR - Forschungsgebiet:L - keine Zuordnung
DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):L - Laserforschung und -technologie
Standort: Stuttgart
Institute & Einrichtungen:Institut für Technische Physik
Hinterlegt von: elib DLR-Beauftragter
Hinterlegt am:16 Sep 2005
Letzte Änderung:06 Jan 2010 14:41

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