Brauch, U. und Hoffmann, T. und Springer, R. (2000) Die optische Lithographie eine Schlüsseltechnologie der Mikrostrukturierung. LaserOpto, 32 (4), Seiten 59-66.
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Dokumentart: | Zeitschriftenbeitrag | ||||||||||||
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Zusätzliche Informationen: | LIDO-Berichtsjahr=2001, | ||||||||||||
Titel: | Die optische Lithographie eine Schlüsseltechnologie der Mikrostrukturierung | ||||||||||||
Autoren: |
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Datum: | 2000 | ||||||||||||
Erschienen in: | LaserOpto | ||||||||||||
Referierte Publikation: | Ja | ||||||||||||
In Open Access: | Nein | ||||||||||||
In SCOPUS: | Nein | ||||||||||||
In ISI Web of Science: | Ja | ||||||||||||
Band: | 32 | ||||||||||||
Seitenbereich: | Seiten 59-66 | ||||||||||||
Status: | veröffentlicht | ||||||||||||
Stichwörter: | Optical lithography, pattern generator, wafer stepper, minimum feature size, depth of focus, wavelength, numerical aperture, mask reticle, enthancement techniques, off-axis illumination, optical proximity correction, phase-shift masks, laser direct writer, laser diode, pixel head, writing strategy, throughput. | ||||||||||||
HGF - Forschungsbereich: | Energie | ||||||||||||
HGF - Programm: | Luftfahrt | ||||||||||||
HGF - Programmthema: | keine Zuordnung | ||||||||||||
DLR - Schwerpunkt: | Energie | ||||||||||||
DLR - Forschungsgebiet: | L - keine Zuordnung | ||||||||||||
DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben): | L - Laserforschung und -technologie (alt) | ||||||||||||
Standort: | Stuttgart | ||||||||||||
Institute & Einrichtungen: | Institut für Technische Physik | ||||||||||||
Hinterlegt von: | DLR-Beauftragter, elib | ||||||||||||
Hinterlegt am: | 16 Sep 2005 | ||||||||||||
Letzte Änderung: | 06 Jan 2010 14:41 |
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