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Brauch, U. und Hoffmann, T. und Springer, R. (2000) Die optische Lithographie eine Schlüsseltechnologie der Mikrostrukturierung. LaserOpto, 32 (4), Seiten 59-66.
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| Dokumentart: | Zeitschriftenbeitrag | ||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Zusätzliche Informationen: | LIDO-Berichtsjahr=2001, | ||||||||||||
| Titel: | Die optische Lithographie eine Schlüsseltechnologie der Mikrostrukturierung | ||||||||||||
| Autoren: |
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| Datum: | 2000 | ||||||||||||
| Erschienen in: | LaserOpto | ||||||||||||
| Referierte Publikation: | Ja | ||||||||||||
| In Open Access: | Nein | ||||||||||||
| In SCOPUS: | Nein | ||||||||||||
| In ISI Web of Science: | Ja | ||||||||||||
| Band: | 32 | ||||||||||||
| Seitenbereich: | Seiten 59-66 | ||||||||||||
| Status: | veröffentlicht | ||||||||||||
| Stichwörter: | Optical lithography, pattern generator, wafer stepper, minimum feature size, depth of focus, wavelength, numerical aperture, mask reticle, enthancement techniques, off-axis illumination, optical proximity correction, phase-shift masks, laser direct writer, laser diode, pixel head, writing strategy, throughput. | ||||||||||||
| HGF - Forschungsbereich: | Energie | ||||||||||||
| HGF - Programm: | Luftfahrt | ||||||||||||
| HGF - Programmthema: | keine Zuordnung | ||||||||||||
| DLR - Schwerpunkt: | Energie | ||||||||||||
| DLR - Forschungsgebiet: | L - keine Zuordnung | ||||||||||||
| DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben): | L - Laserforschung und -technologie (alt) | ||||||||||||
| Standort: | Stuttgart | ||||||||||||
| Institute & Einrichtungen: | Institut für Technische Physik | ||||||||||||
| Hinterlegt von: | DLR-Beauftragter, elib | ||||||||||||
| Hinterlegt am: | 16 Sep 2005 | ||||||||||||
| Letzte Änderung: | 06 Jan 2010 14:41 |
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