elib
DLR-Header
DLR-Logo -> http://www.dlr.de
DLR Portal Home | Impressum | Kontakt | English
Schriftgröße: [-] Text [+]

Influence of the Graphitization Temperature on the Properties of C/C-SiC Manufactured via LSI-Processing

Frieß, M. und Krenkel, W. (1998) Influence of the Graphitization Temperature on the Properties of C/C-SiC Manufactured via LSI-Processing. 9th CIMTEC-World Ceramics Congress & Forum on New Materials, Florence/Italy, June 14-19,1998.

Dieses Archiv kann nicht den gesamten Text zur Verfügung stellen.


Dokumentart:Konferenzbeitrag (Paper)
Zusätzliche Informationen: LIDO-Berichtsjahr=1999,
Titel:Influence of the Graphitization Temperature on the Properties of C/C-SiC Manufactured via LSI-Processing
Autoren:
AutorenInstitution oder E-Mail-Adresse der Autoren
Frieß, M.NICHT SPEZIFIZIERT
Krenkel, W.NICHT SPEZIFIZIERT
Datum:1998
Status:veröffentlicht
Stichwörter:Graphitization, LSI-Processing, Ceramic Matrix Composites
Veranstaltungstitel:9th CIMTEC-World Ceramics Congress & Forum on New Materials, Florence/Italy, June 14-19,1998
HGF - Forschungsbereich:Verkehr und Weltraum (alt)
HGF - Programm:Weltraum (alt)
HGF - Programmthema:W RP - Raumtransport
DLR - Schwerpunkt:Weltraum
DLR - Forschungsgebiet:W RP - Raumtransport
DLR - Teilgebiet (Projekt, Vorhaben):NICHT SPEZIFIZIERT
Standort: Stuttgart
Institute & Einrichtungen:Institut für Bauweisen- und Konstruktionsforschung
Hinterlegt von: elib DLR-Beauftragter
Hinterlegt am:16 Sep 2005
Letzte Änderung:14 Jan 2010 22:05

Nur für Mitarbeiter des Archivs: Kontrollseite des Eintrags

Blättern
Suchen
Hilfe & Kontakt
Informationen
electronic library verwendet EPrints 3.3.12
Copyright © 2008-2013 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt (DLR). Alle Rechte vorbehalten.